LPVCD的原理与故障分析

• 作者: 张士伟
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相淀积 低压化学气相沉积 故障分析 工艺维护
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: IC制造工艺与设备
• 页码范围: 15-18
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 2787字
• 语种: 中文

摘要

文中介绍了CVD工艺的种类和特点.以LPVCD为例,介绍了其工艺的基本原理,以及设备的基本结构.根据多年的设备维护经验,分析了LPCVD设备的常见问题,提出了处理措施.最后,总结出了LPCVD设备的工艺维护方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张士伟	中国电子科技集团公司第十三研究所	3	11	2.0	3.0