离子速度对霍尔推力器壁面鞘层特性的影响

• 作者: 周新维 曹安宁 段萍 殷燕 覃海娟
• 来源期刊: 高电压技术
• 关键词: 霍尔推力器 离子入射速度 鞘层 粒子模拟 二次电子发射 壁面电势
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 高电压新技术
• 页码范围: 160-165
• 页数: 6页
• 字数: 4411字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13336/j.1003-6520.hve.2014.01.023

摘要

为进一步探索霍尔推力器通道内等离子体鞘层的物理机制,针对霍尔推力器等离子体鞘层区域建立二维物理模型,采用二维粒子模拟方法研究了二次电子发射系数、鞘层电子数密度、鞘层电势以及电场随离子入射速度的变化规律,分析了模拟区域径向尺度大小对鞘层稳定性的影响.结果表明:壁面二次电子发射系数随离子入射速度的增大有少许增大,变化在10-3数量级;随着离子入射速度的增大,电子数密度、鞘层电势降及径向电场都减小,而轴向电场几乎不变;在相同的边界条件下,模拟区域径向尺度的增大会导致壁面电势随时间的振荡加剧,鞘层稳定性降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	段萍	大连海事大学物理系	18	62	6.0	7.0
2	周新维	大连海事大学物理系	4	36	4.0	4.0
3	覃海娟	大连海事大学物理系	4	36	4.0	4.0
4	曹安宁	大连海事大学物理系	4	36	4.0	4.0
5	殷燕	大连海事大学物理系	6	29	4.0	5.0