圆光栅玻璃的游离磨料研磨抛光加工工艺

• 作者: 宋月贤 李胜蓝 王成勇 郑李娟 黎清健
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 圆光栅玻璃 研磨 抛光 表面粗糙度 平面度
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 页码范围: 52-56
• 页数: 5页
• 分类号: TG73
• 字数: 4137字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2014.3.0012

摘要

用游离磨料对圆光栅玻璃表面进行了研磨抛光实验,讨论了磨粒尺寸、磨料质量分数、加工时间、研磨盘转速、加载压力、抛光垫材料对试件表面粗糙度和材料去除率的影响。研究表明,硬质抛光垫能更好地保持试件的平面度。获得的优化工艺参数组合为：研磨盘转速75 r/min；磨料质量分数10%；研磨液流量10 mL/min；5μm 的 Al2 O 3加载压力0.019 MPa,粗研20 min；1μm 的 Al2 O 3加载压力0.015 MPa,精研20 min；30 nm 的 CeO 2加载压力0.012 MPa,精抛10 min。在该工艺组合下,获得了表面粗糙度值Ra 为3.3 nm、平面度为5μm 的圆光栅玻璃。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王成勇	广东工业大学机电工程学院	186	2516	26.0	39.0
2	宋月贤	广东工业大学机电工程学院	28	542	9.0	23.0
3	郑李娟	广东工业大学机电工程学院	20	78	4.0	8.0
4	李胜蓝	广东工业大学机电工程学院	2	2	1.0	1.0
5	黎清健	广东工业大学机电工程学院	2	2	1.0	1.0