固结磨料研磨与抛光的研究现状与展望

• 作者: 朱永伟 李立明 李茂
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 固结磨料 抛光垫 研磨 抛光
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 页码范围: 17-22
• 页数: 6页
• 分类号: TG58|TG74
• 字数: 4047字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2009.05.004

摘要

分析了传统游离磨料研磨抛光存在的缺点和固结磨料的研磨抛光的优点;阐述了固结磨料研磨抛光的材料去除机制以及固结磨料研磨盘抛光技术在氮化硅陶瓷加工、半导体制程中的应用;介绍了多种固结磨料研磨盘、抛光垫的制作方法;并展望了固结磨料的研磨抛光的发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱永伟	南京航空航天大学机电学院	128	1288	19.0	26.0
2	李立明	郑州电力高等专科学校机电工程系	21	218	8.0	14.0
3	李茂	南京航空航天大学机电学院	9	183	7.0	9.0