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液态源可控蒸发输送系统
液态源可控蒸发输送系统
作者:
吴得轶
杨彬
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
液态源输送
扩散炉
氧化炉
化学气相淀积
摘要:
在太阳能电池、微电子等半导体工艺制程中,液态源以生产效率高、成膜特性好、气压小不易泄漏等优点,广泛应用于扩散、氧化、化学气相沉积等工艺.如:在太阳能电池PN结制程中,掺杂用的液态磷源、液态硼源,以及在湿氧氧化工艺中使用的蒸馏水;在光电子、微电子行业中,化学气相淀积设备(CVD)使用的HM DSO、TEOS、SiHCl3等.实验数据显示,这些液态源的输送对各种掺杂、氧化、淀积工艺的质量具有很大影响.对液态源输送的技术现状进行阐述,分析了现有技术的特性和缺点,并结合未来工艺对装备要求的趋势,在此基础上提出了一种液态源可控蒸发输送系统.
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文献信息
篇名
液态源可控蒸发输送系统
来源期刊
电子工业专用设备
学科
工学
关键词
液态源输送
扩散炉
氧化炉
化学气相淀积
年,卷(期)
2014,(8)
所属期刊栏目
光伏制造工艺与设备
研究方向
页码范围
28-30,58
页数
4页
分类号
TM615
字数
2777字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
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被引次数
H指数
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1
杨彬
中国电子科技集团公司第四十八研究所
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吴得轶
中国电子科技集团公司第四十八研究所
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氧化炉
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
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主办单位:
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-4507
CN:
62-1077/TN
开本:
大16开
出版地:
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
邮发代号:
创刊时间:
1971
语种:
chi
出版文献量(篇)
3731
总下载数(次)
31
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