反烧结Si3N4复合陶热力学分析

• 作者: 邓春锋 马艳霞
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化硅 陶瓷 反应烧结 热力学
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 页码范围: 4-6
• 页数: 3页
• 分类号: TM285

摘要

以TiSi2-SiC—N2体系反应制备Si3N4-TiN—SiC复相陶瓷材料进行理论分析和理论计算，通过对TiSi2-SiC—N2体系的DSC试验和XRD检测来研究TiSi2与N2的反应温度区间。结果表明：TiSi2和N2在2000K以下在热力学上可以发生反应，而TiSi2不分解；DSC结果发现在1105℃以上TiSi2与N2开始反应。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马艳霞	中国船舶重工集团公司第七二五研究所	22	14	2.0	3.0
2	邓春锋	中国船舶重工集团公司第七二五研究所	11	16	2.0	3.0