有机/无机/有机结构的封装薄膜水汽透过率研究

• 作者: 刘云飞 杨丹 杨永强 段羽 陈平 陶冶 高强
• 来源期刊: 光电子·激光
• 学科: 工学
• 关键词: 原子层沉积(ALD) Ca电学测试 有机/无机/有机3层封装结构
• 年，卷（期）: 2014,（9）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 1721-1726
• 页数: 6页
• 分类号: TN383.1|TN873.3
• 语种: 中文

摘要

为了减少原子层沉积(ALD)方法在氧化物薄膜制备过程中ALD反应气对有机电致发光器件(OLED)性能的影响,利用旋涂光交联聚合物技术,直接在OLED上形成有机/无机/有机3层结构的保护薄膜.通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)的表面形貌分析表明,3层结构的封装薄膜表面平滑且致密,减少水(H2O)汽在氧化物表面积聚,降低H2O对氧化物薄膜的腐蚀作用,且成膜过程对OLED的各功能层没有伤害.经Ca薄膜的电学方法测量证明,这种3层结构的封装薄膜对气体有极高的阻隔作用,其H2O汽透过率(WVTR)可以达到9.0×10-5g/(m2·day),从而实现了对OLED的有效保护.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	段羽		6	76	3.0	6.0
2	高强		12	38	4.0	6.0
3	杨丹		22	82	3.0	8.0
4	刘云飞		3	0	0.0	0.0
5	陈平		8	45	4.0	6.0
6	杨永强		3	29	2.0	3.0
7	陶冶		5	2	1.0	1.0