基于高光谱成像技术的长枣表面农药残留无损检测

• 作者: 何建国 刘民法 刘贵珊 张令标 王松磊 贺晓光
• 来源期刊: 食品与机械
• 关键词: 高光谱成像技术 灵武长枣 农药残留 无损检测
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 安全与检测
• 页码范围: 87-92
• 页数: 6页
• 语种: 中文
• DOI: 10.13652/j.issn.1003-5788.2014.05.017

摘要

利用近红外高光谱成像技术对灵武长枣的表面农药残留进行无损检测研究.采用Kubelka-Munk校正和Savitzky-Golay卷积平滑对900～1 700 nm波段范围内的原始光谱进行预处理,选取最优的预处理方法;运用偏最小二乘回归系数选择特征波长,建立全波段和特征波长下的偏最小二乘农药残留预测模型.结果表明,经过Kubelka-Munk+ Savitz-ky-Golay卷积平滑处理后的光谱建模效果最好,且利用特征波长建立的长枣表面农药残留校正和验证模型的相关系数和均方根误差分别为0.86,0.85和0.000 32,0.000 33,优于全波段建立的模型.研究表明,采用高光谱成像技术对灵武长枣表面农药残留的无损检测是可行的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王松磊		74	455	12.0	17.0
2	何建国		93	716	16.0	22.0
3	贺晓光		101	605	13.0	19.0
4	刘贵珊		58	454	13.0	19.0
5	刘民法		3	43	2.0	3.0
6	张令标		4	19	2.0	4.0