非晶氧化钛薄膜形成过程中钛离子能量对表面结构影响的机理

• 作者: 安书董 王小波 王晓艳 王炎武 赵玉清 陈仙
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 薄膜生长 分子动力学 表面结构
• 年，卷（期）: 2014,（24）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、力学和热学性质
• 页码范围: 246801-1-246801-5
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.63.246801

摘要

研究了非晶氧化钛薄膜沉积过程中入射钛离子能量对表面结构形成机理以及薄膜特性的影响。模拟结果表明，通过提高入射钛离子能量，可以有效降低成膜表面粗糙度，从而减小薄膜表面的光学散射损耗。研究发现，当入射离子能量提高后，薄膜生长模式从“岛”状生长过渡到了“层”状生长，且离子入射点附近的平均扩散系数也有显著增加，这有利于形成更加平整的高质量薄膜表面。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵玉清		17	63	4.0	7.0
2	王晓艳	西安交通大学电子与信息工程学院电子物理与器件教育部重点实验室	25	147	8.0	11.0
3	安书董	西安交通大学电子与信息工程学院电子物理与器件教育部重点实验室	4	9	2.0	3.0
4	王炎武	西安交通大学电子与信息工程学院电子物理与器件教育部重点实验室	5	8	2.0	2.0
5	陈仙	西安交通大学电子与信息工程学院电子物理与器件教育部重点实验室	8	34	3.0	5.0
6	王小波	西安交通大学电子与信息工程学院电子物理与器件教育部重点实验室	4	24	2.0	4.0