太赫兹金属双光栅超厚胶光刻工艺

• 作者: 单云冲 吕国强 杨军 邓光晟 阮久福
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 双光栅 太赫兹 光刻 超厚胶 深宽比
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 太赫兹技术
• 页码范围: 201-205
• 页数: 5页
• 分类号: TQ323|TN129
• 字数: 3234字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201426.053102

摘要

介绍了制备某太赫兹频率真空辐射光栅的超厚胶光刻工艺,针对工艺中的难点(大厚度和高深宽比)展开了深入分析.实验分析了基片处理、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影等工艺过程对光刻的影响,通过优化工艺参数,解决了胶膜脱落、开裂,不同胶层间的结合,光栅沟槽间的光刻胶残留等问题,成功制备了厚度为700μm、深宽比为14的侧壁陡直、表面平整的双光栅结构胶膜.