高功率脉冲磁控溅射等离子体特性与动力学研究进展

• 作者: 夏原 李光 高方圆
• 来源期刊: 中国科学院大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: HIPIMS HPPMS 等离子体动力学 放电特性 高离化率
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 145-154
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.7523/j.issn.2095-6134.2015.02.001

摘要

高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)作为一项极具发展前途的物理气相沉积新技术,近年来引起学术界和工业界的广泛关注.HIPIMS技术(也被称为HPPMS)可以提供足够的放电功率来获得极高的电流密度,数值达到几个A·cm-2;同时,可以得到10”m-3量级的高密度等离子体.溅射过程中独特的等离子体特性表明了该技术的突出优势,因此可实现沉积过程的控制和薄膜性能的优化.文中对HIPIMS技术的Ⅳ放电特征,电源设计,以及溅射原子离化率进行深入分析.同时,回顾讨论等离子体时间空间演变规律,离化基团输运,薄膜沉积速率等问题的研究进展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李光	中国科学院力学研究所	38	138	7.0	9.0
2	夏原	中国科学院力学研究所	25	199	7.0	13.0
3	高方圆	中国科学院力学研究所	5	4	1.0	1.0