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真空烧结技术研究
真空烧结技术研究
作者:
刘洪涛
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
真空烧结
润湿
空洞
剪切强度
摘要:
随着电子装备和系统对可靠性及使用期的要求不断提高,对于集成电路的质量和可靠性以及贮存寿命期提出了更高要求,因而对芯片的焊接工艺也提出了越来越高的要求。通过对清洗工艺和真空烧结工艺的深入研究,优化清洗工艺,改善焊料与金属化层的浸润性,优化芯片烧结工艺参数,包括选择合适的升温速率、烧结温度和焊料熔化时间及冷却方式等措施,改善了焊料的润湿性能,减小了空洞面积,提高了芯片焊接强度。
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内容分析
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相关文献总数
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文献信息
篇名
真空烧结技术研究
来源期刊
微处理机
学科
工学
关键词
真空烧结
润湿
空洞
剪切强度
年,卷(期)
2015,(3)
所属期刊栏目
大规模集成电路设计、制造与应用
研究方向
页码范围
9-11
页数
3页
分类号
TN4
字数
2284字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-2279.2015.03.004
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘洪涛
中国电子科技集团公司第四十七研究所
12
11
2.0
3.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
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研究主题发展历程
节点文献
真空烧结
润湿
空洞
剪切强度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微处理机
主办单位:
中国电子科技集团公司第四十七研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-2279
CN:
21-1216/TP
开本:
大16开
出版地:
沈阳市皇姑区陵园街20号
邮发代号:
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
3415
总下载数(次)
7
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