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摘要:
采用全固态微光成像器件是未来微光成像的发展趋势。介绍了2种全固态微光器件 EMCCD、InxGa1-xAs,分析了其成像性能,描述了其研究现状,对比了传统的真空光电成像与全固态微光成像性能指标,阐明了微光成像器件向着高灵敏度、低噪声、宽光谱响应和强适应能力方向发展。
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文献信息
篇名 新型微光成像器件及应用
来源期刊 红外技术 学科 工学
关键词 微光成像 全固态微光成像器件 EMCCD InxGa1-xAs
年,卷(期) 2015,(8) 所属期刊栏目 微光技术
研究方向 页码范围 701-706
页数 6页 分类号 TN223
字数 4272字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 樊桂花 装备学院光电装备系 14 73 4.0 8.0
2 郭惠超 装备学院光电装备系 14 110 5.0 10.0
3 范有臣 6 71 3.0 6.0
4 刘智超 2 3 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
微光成像
全固态微光成像器件
EMCCD
InxGa1-xAs
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外技术
月刊
1001-8891
53-1053/TN
大16开
昆明市教场东路31号《红外技术》编辑部
64-26
1979
chi
出版文献量(篇)
3361
总下载数(次)
13
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