MPCVD法合成单晶金刚石的研究及应用进展

• 作者: 何莲 满卫东 肖雄 赵彦君 阳硕
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 物理学
• 关键词: 单晶金刚石 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD) 高技术应用
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 131-138
• 页数: 8页
• 分类号: O781|O484
• 字数: 5660字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2015.03.002

摘要

单晶金刚石因其优异的物理化学性质，使其成为高新技术领域最有潜力的材料之一。本文首先对CVD （化学气相沉积）法制备单晶金刚石进行了简介，然后对MPCVD（微波等离子体化学气相沉积）制备单晶金刚石过程中衬底选择、预处理、沉积参数等进行了详细评述，最后对MPCVD单晶金刚石在超精密加工、光学领域、粒子探测器、高温半导体及电子器件等方面的应用进行了介绍，并对未来单晶金刚石的发展作出了展望。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	满卫东	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	45	370	11.0	16.0
2	赵彦君	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	3	19	3.0	3.0
3	何莲	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	3	19	3.0	3.0
4	阳硕	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	3	19	3.0	3.0
5	肖雄	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	2	16	2.0	2.0