CVD单晶金刚石的研究进展

• 作者: 严垒 吴超 马志斌 高攀
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 单晶金刚石 生长参数 研究成果
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 页码范围: 57-63
• 分类号: TQ164
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2014.1.0013

摘要

化学气相沉积(CVD)单晶金刚石是近年来金刚石领域研究焦点之一,在众多合成方法中,微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)是诸多学者公认的稳定生长均匀高质量单晶金刚石最有前途的技术.近年来,MPCVD合成单晶金刚石在质量、速率、尺寸以及应用上取得了重大的进展,但是目前仍然有一个问题需要解决,即如何在保证质量的前提下大幅度提高单晶金刚石的生长速率.本文对CVD单晶金刚石过程中衬底的选择、表面加工与处理、基座的结构和沉积参数的选择进行了详细评述,并简要介绍了CVD单晶金刚石国内外研发成果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马志斌	武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	58	189	7.0	10.0
2	严垒	武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	5	22	3.0	4.0
3	吴超	武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	2	9	1.0	2.0
4	高攀	武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	3	15	2.0	3.0