同质外延单晶CVD金刚石的研究进展

• 作者: 匡巧 吕继磊 朱金凤 汪建华 满卫东
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 单晶金刚石 化学气相沉积 同质外延 生长速率
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 页码范围: 15-22
• 分类号: TQ164
• 字数: 6946字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2011.04.004

摘要

金刚石因具有诸多优异的物理化学性能而使其在很多领域都有非常广阔的应用前景.CVD法高速合成大面积、高质量单晶金刚石一直是人工合成金刚石的研究热点之一.本文首先从基底预处理、生长参数的优化以及合成工艺的改进这三个方面综述了MPCVD同质外延单晶金刚石的研究进展,其次对国内外CVD外延单晶金刚石的研究进展进行了简单的介绍,最后对CVD法合成单晶金刚石的发展方向进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪建华	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	123	698	14.0	19.0
2	满卫东	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	45	370	11.0	16.0
3	吕继磊	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	8	81	5.0	8.0
4	朱金凤	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	6	63	5.0	6.0
5	匡巧	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	1	11	1.0	1.0