HNO3在气相及SiO2表面的紫外光解反应

• 作者: 孙云东 朱承驻 邹家骥 陆军
• 来源期刊: 环境化学
• 关键词: HNO3 气相 SiO2表面 光解
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 基金专栏:
• 页码范围: 748-753
• 页数: 6页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7524/j.issn.0254-6108.2015.04.2014080202

摘要

利用紫外及红外吸收光谱等分析手段对365 nm光照下HNO3在气相与SiO2表面的光解反应进行了研究．考察了HNO3浓度、光照时间、相对湿度等条件对反应的影响．结果表明：随着HNO3浓度及光照时间的增加，光解产生的NO2和NO浓度均呈指数增加；无水汽情况下，400 Pa的HNO3光解45 min后，产生NO2及NO浓度比气相光解产生的分别高约3及1．7倍．HNO3光解产生的HONO的浓度随相对湿度的增加而呈线性增加，在SiO2颗粒物表面光解产生的NO2浓度随着相对湿度的增加而减少，而NO浓度则随之增大．400 Pa的HNO3光照45 min后，SiO2表面光解产生的HONO浓度是气相光解的3倍、SiO2表面暗反应的约30倍．

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱承驻	合肥工业大学资源与环境工程学院	40	219	9.0	12.0
5	陆军	合肥工业大学分析测试中心	13	41	4.0	5.0
6	孙云东	合肥工业大学资源与环境工程学院	4	13	3.0	3.0
7	邹家骥	合肥工业大学资源与环境工程学院	3	9	3.0	3.0