不同驱动电源下磁控溅射等离子体行为

• 作者: 刘思宁 吴法宇 周艳文 孟兰兰 朱鹏福
• 来源期刊: 辽宁科技大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 浮动电势 基体饱和电流 磁控溅射等离子体 驱动电源
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 材料与冶金工程
• 页码范围: 247-252
• 页数: 6页
• 分类号: O461
• 字数: 3306字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13988/j.ustl.2015.04.002

摘要

磁控溅射驱动方式是影响其等离子体特征的重要因素之一,而等离子体行为最终影响所沉积薄膜结构和性能.磁控溅射过程中基体上产生的浮动电势与等离子体中电子能量分布有关,基体饱和电流则与等离子体的离子密度有关,可综合反映辉光放电系统等离子体状态.本实验分别采用射频、直流和脉冲直流电源溅射Mo粉末靶,改变靶基距,测量基体浮动电势及饱和电流,探讨溅射驱动方式对等离子体行为的影响.研究表明:靶功率增加,靶电压、电流均随靶功率增大,基体浮动电势基本保持不变,基体饱和电流增加,但电压增加率极小,而电流增加率较大.基体浮动电势绝对值随靶基距的增加而降低,即电子的能量分布随靶基距增加而降低.射频溅射产生的浮动电势明显小于直流和脉冲直流溅射的.直流溅射等离子体能量最高,射频溅射等离子体密度最大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周艳文	辽宁科技大学材料与冶金学院	46	32	3.0	5.0
2	吴法宇	辽宁科技大学材料与冶金学院	14	10	2.0	2.0
3	刘思宁	辽宁科技大学材料与冶金学院	5	4	1.0	1.0
4	孟兰兰	辽宁科技大学材料与冶金学院	1	1	1.0	1.0
5	朱鹏福	辽宁科技大学材料与冶金学院	2	1	1.0	1.0