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摘要:
高分辨率TFT曝光技术随着第三代显示技术--AMOLED显示技术和高PPI显示技术的发展,已经成为平板显示的最关键技术之一,实现高分辨曝光的TFT曝光机也是ARRAY段最核心设备.介绍了可用于G2.5代TFT玻璃基板制造的高分辨率扫描投影曝光机SSB225/10,并以实际测试数据及制造成功的AMOLED显示器件表明该设备能够很好地满足LTPS-TFT工艺要求.
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内容分析
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文献信息
篇名 G2.5高分辨率TFT扫描投影曝光机
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 主动有机发光二极管(AMOLED)显示 分辨率 曝光机 关键尺寸(CD)
年,卷(期) 2015,(11) 所属期刊栏目 先进光刻与刻蚀
研究方向 页码范围 1-7
页数 7页 分类号 TN307
字数 2353字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李喜峰 上海大学新型显示及应用集成技术教育部重点实验室 21 70 5.0 6.0
2 周畅 8 27 4.0 4.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
主动有机发光二极管(AMOLED)显示
分辨率
曝光机
关键尺寸(CD)
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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