近红外成像光学系统设计

• 作者: 吴玲玲 张欢 陈靖
• 来源期刊: 应用光学
• 学科: 工学
• 关键词: 光学系统 像质评价 杂散光
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 光电系统与工程
• 页码范围: 183-187
• 页数: 5页
• 分类号: TN216|TH703
• 字数: 1687字
• 语种: 中文
• DOI: 10.5768/JAO201536.0201004

摘要

为了明确近红外成像光学系统对杂散光的抑制能力，设计了一个光谱为0．75μm～1μm，焦距12．002mm，F／1．8，视场15°×15°的光学系统，其结构为改进型的双高斯结构。实验结果表明：设计的光学系统的各视场光斑在艾瑞斑内，焦移量最大为4．9μm，球差约为1μm，垂轴像差最大为3μm，MTF接近衍射极限。对设计的光学系统进行了杂散光评估和杂散光抑制，得到了杂散光抑制前后的点源透射比。分析结果表明：与未加遮光罩相比，加入遮光罩的光学系统PST值下降了76．6％～87．5％。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴玲玲	西安工业大学光电工程学院	31	103	6.0	9.0
2	陈靖	西安工业大学光电工程学院	20	45	5.0	6.0
3	张欢	西安工业大学光电工程学院	4	17	3.0	4.0