静磁场对熔融液滴振荡变形影响的相场模拟

• 作者: 张凤超 沈骏 田小红 石万元
• 来源期刊: 西南交通大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 相场模拟 静磁场 液滴 硅熔体
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 页码范围: 382-387
• 页数: 6页
• 分类号: TK124
• 字数: 3095字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-2724.2015.02.027

摘要

为了解静磁场作用下熔融液滴振荡过程的特征，采用相场法数值模拟了硅熔体液滴的界面变形和内部对流过程，分析了轴向静磁场对初始形状为二阶Legendre函数硅熔体液滴界面振荡和内部对流的影响．研究表明：施加静磁场以后，液滴收缩较快，说明静磁场抑制了液滴内部流动；随着磁场强度从0增加至0．9 T，流函数最大值从0．57减小到0．08，液滴的界面振荡和内部对流逐渐减弱，液滴的长短轴比更快趋近于1，但磁场对液滴的振荡周期没有明显影响，显示相场法能够模拟密度较大的熔融液滴的界面振荡和内部对流过程．

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	石万元	重庆大学动力工程学院	26	100	6.0	9.0
5	张凤超	重庆大学动力工程学院	2	8	2.0	2.0
6	田小红	重庆大学动力工程学院	2	8	2.0	2.0
7	沈骏	重庆大学材料科学与工程学院	12	84	6.0	9.0