残影不良分析及改善对策研究

• 作者: 艾雨 蒋学兵
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 残影 扭曲向列型 预倾角 面板
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 材料物理和化学
• 页码范围: 566-570
• 页数: 5页
• 分类号: TN141
• 字数: 1770字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20153004.0566

摘要

通过对大量残影不良样品进行分析,找到了残影不良产生的原因,并基于分析结果设计了改善残影的实验.通过分析发现:残影不良产生的原因是彩膜侧像素与黑矩阵之间的段差过大,在摩擦工程时段差过大区域形成了摩擦弱区,摩擦弱区内的液晶分子配向较弱,导致不良产生.为降低残影不良进行实验,结果显示:在彩膜侧加覆盖层可以有效降低残影不良的发生率,但不适用于量产;通过采用高预倾角的配向膜材料,同时控制配向膜工程到摩擦工程的时间,可使残影不良发生率由28.2％降低至0.2％,为企业的稳定高效生产奠定了基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	艾雨		2	2	1.0	1.0
2	蒋学兵		1	2	1.0	1.0