基于DOE的TFT-LCD切换残影不良改善研究

• 作者: 何云川 李莹 杨德波 王云志 陶雄
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 切换残影 实验设计 覆盖层 重叠层 摩擦扭转力
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 123-128
• 页数: 6页
• 分类号: TN141.9
• 字数: 2459字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20183302.0123

摘要

为降低TFT-LCD生产过程中切换残影不良的发生率,在考虑残影的主要影响因素基础上,采用实验设计(DOE)中的部分因子实验设计筛选该不良的显著因子,结合生产实际开展切换残影的改善研究工作.研究结果表明:DOE 方法能有效辨别残影不良的显著因子有覆盖层(Over coater,OC)、重叠部分(ITO-Vcom Overlay,OL)和摩擦扭转力(Rub-bing Torque),在实际生产的不良改善过程中,彩膜玻璃(Color Filter,CF)增加 OC、加大 OL 和提高 Rubbing Torque 值均能有效降低残影不良发生率;研究结果为切换残影和改善TFT-LCD生产过程中其他不良提供了新思路.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨德波		5	3	1.0	1.0
2	王云志		3	5	2.0	2.0
3	陶雄		3	4	1.0	2.0
4	李莹		1	0	0.0	0.0
5	何云川		1	0	0.0	0.0