稀疏正则和自适应有限元的荧光分子断层成像

• 作者: 余景景 侯榆青 程璟星 董芳 贺小伟
• 来源期刊: 西安电子科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 荧光分子断层成像 稀疏正则化 重建算法
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 页码范围: 174-179
• 页数: 6页
• 分类号: TP301.6
• 字数: 4434字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2400.2015.02.029

摘要

提出了一种基于稀疏正则和自适应有限元方法的两阶重建算法，在初始网格和次级网格光源重建实验中，根据重建问题的特点，选用两种不同的稀疏正则化方法。通过仿真实验表明，所提出的方法在荧光分子断层成像重建应用方面具有可行性、稳定性和高效性。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	侯榆青	西北大学信息科学与技术学院	57	297	11.0	15.0
2	贺小伟	西北大学信息科学与技术学院	41	105	5.0	9.0
3	余景景	陕西师范大学物理学与信息技术学院	13	15	2.0	3.0
4	程璟星	西北大学信息科学与技术学院	2	13	2.0	2.0
5	董芳	西北大学信息科学与技术学院	2	5	1.0	2.0