Soitec与SITRI携手共同开发射频SOI技术

• 来源期刊: 半导体信息
• 学科: 工学
• 关键词: SOI技术 开发 INDUSTRIAL 射频 半导体公司 研究机构 电路设计 基底材料
• 年，卷（期）: bdtxx_2015,（4）
• 页码范围: 27-27
• 页数: 1页
• 分类号: TN43

摘要

法国半导体公司Soitec与上海Industrial μTechnology研究机构（SITRI）共同签署一项协议，将采用基于Soitec公司衬基底材料和相关技术的先进电路设计进一步开发RF-SOI技术。