软X射线Mo/B4C多层膜应力和热稳定性研究

• 作者: 张众 徐德超 朱杰 王占山 王海霞 连玉红
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 软X射线 Mo/B4C 直流磁控溅射 应力 热稳定性
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 118-122
• 页数: 5页
• 分类号: O434.1
• 字数: 3313字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201527.062001

摘要

为了实现7 nm波段Mo/B4C多层膜反射镜元件的制备,研究了不同退火方式对Mo/B4C多层膜应力和热稳定性的影响.首先,采用直流磁控溅射方法分别基于石英和硅基板制作Mo/B4C多层膜样品,设计周期为3.58 nm、周期数为60,Mo膜层厚度与周期的比值为0.4.其次,采用不同的退火方式对所制作的样品进行退火实验,最高退火温度500℃.最后,分别采用X射线掠入射反射、X射线散射和光学干涉仪的方法对退火前后的Mo/B4C多层膜的周期、界面粗糙度和应力进行测试.测试结果表明采用真空退火方式能够有效降低Mo/B4C多层膜的应力,且退火前后Mo/B4C多层膜的周期和界面粗糙度无明显变化,证明Mo/B4C多层膜在500℃以内具有很好的热稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张众	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	25	122	7.0	10.0
2	连玉红	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	2	1	1.0	1.0
3	朱杰	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	8	21	3.0	4.0
4	徐德超	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	1	1	1.0	1.0
5	王海霞	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	1	1	1.0	1.0