ALD反应腔分区加热控制

• 作者: 余平 杨宁 狄芬芬
• 来源期刊: 自动化与仪器仪表
• 学科: 工学
• 关键词: ALD 温度控制 分区加热 前馈补偿
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 过程自动化
• 页码范围: 38-39,42
• 分类号: TP273
• 语种: 中文
• DOI: 10.14016/j.cnki.1001-9227.2015.06.038

摘要

在原子层沉积系统(Atomic layer deposition) ALD的薄膜生长工艺流程中,关键部分在于对工艺腔室内部温度和压强的控制.由于ALD反应腔内部温度控制具有非线性、滞后性及时变性,本文通过对反应腔采取分区加热的方法,使用西门子TIA博途软件自带的具有抗积分饱和功能的PID控制器,加上前馈补偿PID控制算法,很好地解决了反应腔内温度均匀性这一问题.并通过实验实测数据和仿真,得出整个温度控制范围误差控制在5℃‰.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨宁	上海电力学院自动化工程学院	50	348	10.0	15.0
2	狄芬芬	上海电力学院自动化工程学院	2	2	1.0	1.0
3	余平	上海电力学院自动化工程学院	1	1	1.0	1.0