大口径非球面光学研抛压力控制系统

• 作者: 刘凤 王佩 石为人 范敏
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 大口径非球面 光学研抛 研抛压力 压力控制 PID控制
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 微纳技术与精密机械
• 页码范围: 1019-1026
• 页数: 8页
• 分类号: TP273|TQ171.684
• 字数: 3483字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20152304.1019

摘要

根据大口径非球面光学元件研抛工艺的需求,基于行星式研抛装置设计了一种新型的双路气压平衡研抛压力控制系统.该系统利用低摩擦气缸,压力传感器和两个电气比例阀构建研抛气压闭环回路.分析了系统工作原理,建立了压力控制系统的非线性模型.为了实现恒压控制,运用前馈控制及双模态PID控制算法设计了复合控制器.实验结果表明,该系统能实现研抛压力的平缓过渡,可完成研抛压力的无级调节和柔性控制,输出研抛压力在0到350 N可调,稳态压力波动小于1N,对气缸活塞位移波动干扰有较强的鲁棒性.该系统基本满足研抛系统对研抛压力稳定性和精确度的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	石为人	重庆大学自动化学院	156	2848	28.0	45.0
2	范敏	重庆大学自动化学院	35	444	14.0	18.0
3	刘凤	重庆大学自动化学院	2	10	2.0	2.0
4	王佩	重庆大学自动化学院	1	8	1.0	1.0