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环形抛光技术在列阵透镜制造中的应用
环形抛光技术在列阵透镜制造中的应用
作者:
朱健强
李养帅
樊全堂
焦翔
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
光学制造
环形抛光
列阵透镜
面形控制
大曲率半径
摘要:
针对传统方法抛光高功率激光实验中使用的长焦距列阵透镜单元遇到的检测困难、一致性差等问题,提出了采用环形抛光的新方法.对环形抛光系统的理论分析表明,抛光盘面形可以稳定在球面状态.利用这种特性,环形抛光法可以抛光小曲率球面.阐述了抛光盘面形的调节方法.利用0.69 m环形抛光机对口径45 mm、曲率半径57207 mm的列阵透镜单元进行了抛光,结果表明面形精度和一致性均优于平面摆动式抛光法.最后对环形抛光机可抛光的球面曲率半径范围进行了探讨,发现盘面尺寸越小球面抛光能力越强,直径0.8m的盘面可抛光的曲率半径可低至10m.
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文献信息
篇名
环形抛光技术在列阵透镜制造中的应用
来源期刊
中国激光
学科
工学
关键词
光学制造
环形抛光
列阵透镜
面形控制
大曲率半径
年,卷(期)
2015,(7)
所属期刊栏目
测量与计量
研究方向
页码范围
265-270
页数
6页
分类号
TG356.28
字数
语种
中文
DOI
10.3788/CJL201542.0708011
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
朱健强
中国科学院上海光学精密机械研究所
147
1132
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31.0
2
焦翔
中国科学院上海光学精密机械研究所
12
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樊全堂
中国科学院上海光学精密机械研究所
5
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李养帅
中国科学院上海光学精密机械研究所
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节点文献
光学制造
环形抛光
列阵透镜
面形控制
大曲率半径
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国激光
主办单位:
中国光学学会
中科院上海光机所
出版周期:
月刊
ISSN:
0258-7025
CN:
31-1339/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市嘉定区清河路390号 上海800-211邮政信箱
邮发代号:
4-201
创刊时间:
1974
语种:
chi
出版文献量(篇)
9993
总下载数(次)
26
总被引数(次)
105193
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