P型Mn掺杂TiO₂纳米薄膜的制备及其光电性能研究

• 作者: 刘培战 夏晓红 高云
• 来源期刊: 材料化学前沿
• 学科: 工学
• 关键词: MN掺杂 磁控溅射 TiO₂ 光电性能
• 年，卷（期）: clhxqy_2016,（3）
• 页码范围: 21-29
• 页数: 9页
• 分类号: TB3

摘要

采用射频磁控溅射法以Mn0.8Ti1.2O3固相陶瓷靶为靶材,在石英衬底上制备了Mn掺杂TiO2纳米薄膜,通过XRD、EDS、AFM、XPS、UV-Vis-IR、两探针法和半导体霍尔效应等测试表征技术研究了Mn掺杂对TiO2薄膜的晶体结构、表面化学态和光电性能的影响。结果表明,Mn掺杂TiO2薄膜为p型半导体,随着溅射功率的增加,薄膜的光吸收向可见光方向移动,电导率增加。过量Mn掺杂会导致Mn元素的析出,光吸收性能和电学性能均变差,说明Mn掺杂是TiO2薄膜光电性能改善的根本原因。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏晓红	湖北大学材料科学与工程学院	15	2	1.0	1.0
2	高云	湖北大学材料科学与工程学院	20	40	4.0	6.0
3	刘培战	湖北大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0