黑矩阵扩散法修复亮点理论模型及影响因素分析

• 作者: 张南红 徐敏 李涛 郭栋 韩磊 魏平玉
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 黑矩阵扩散 修复成功率 激光 影响因素 光阻
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 164-172
• 页数: 9页
• 分类号: TN24|TN942
• 字数: 6482字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20163102.0164

摘要

本文建立了黑矩阵扩散法修复亮点的理论模型并实验验证了该模型,分析了影响修复效果的各个因素及影响程度,为提升亮点修复成功率奠定基础.我们设置一系列实验,定性分析了激光泵浦源、激光波长、光斑大小、加工速度、产品设计和修复模式因素对修复效果的影响.首先,通过FIB图像分析,验证了创建的修复理论模型;其次,分析了上述因素对修复成功率的影响,最后对一款修复难度大的产品进行改善提升.实验结果表明:修复过程按照产生空隙(Gap,约1.5μm),黑矩阵颗粒化和空隙填充三阶段进行;从成功率看,Laser Diode泵浦方式优于Flash Lamp,B波长激光优于A波长激光,光斑大小选取1/2子像素、速度选取100～200μm/s时Gap成功率最高,有Overcoat层(OC)且黑矩阵(BM)比重大的产品修复成功率更高.最后我们以上述理论分析和实验结果为指导,将一款修复难度极大的产品的成功率从40％提升到90％以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏平玉		2	1	1.0	1.0
2	李涛		1	1	1.0	1.0
3	徐敏		1	1	1.0	1.0
4	韩磊		2	1	1.0	1.0
5	郭栋		2	1	1.0	1.0
6	张南红		2	2	1.0	1.0