电子/质子综合辐照带通滤光片的性能退化机理研究

• 作者: 张剑锋 杨生胜 郭云
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 物理学
• 关键词: 带通滤光片 电子/质子辐照 性能退化
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 研 究 报 告
• 页码范围: 210-213
• 页数: 4页
• 分类号: O47
• 字数: 1852字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2016.04.006

摘要

随着航天器的寿命从5年增加到8年以上，光学薄膜在空间飞行中经受的带电粒子辐照时间更长，光学薄膜更容易受到损伤，因此对光学薄膜抗辐射性能要求也不断提高。开展了光学薄膜带通滤光片电子/质子综合辐照实验，研究电子/质子综合辐照作用下带通滤光片的性能退化规律，借助于XPS和AFM等表面分析技术对带通滤光片微观分析，研究带通滤光片在电子/质子综合辐照下的退化机理。为带通滤光片空间适应性研究提供基础，同时为带通滤光片工艺设计与可靠性提供技术支撑。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨生胜	兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室	58	120	5.0	7.0
2	张剑锋	兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室	3	4	1.0	2.0
3	郭云	兰州空间技术物理研究所空间环境材料行为与评价技术重点实验室	3	0	0.0	0.0