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摘要:
新型磁盘存储材料Eu2PdSi3单晶制备由于Eu的挥发问题一直是一个难点.本文采用光辐射加热悬浮区熔法尝试制备了Eu2PdSi3单晶.采用标准化学成分配比制备给料棒,制备出的Eu2PdSi3晶体为胞状晶,分析是由于熔区成分发生变化,发生成分过冷导致胞状组织;采用给料棒成分调整法成功生长出大块Eu2PdSi3晶体.研究发现,采用3 MPa循环Ar气并不能完全抑制Eu在高温下的挥发,继续增大保护气体的压强配合给料棒成分调整,有利于解决Eu元素的挥发问题.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 含有易挥发元素的Eu2PdSi3光辐射悬浮区熔法晶体生长
来源期刊 材料热处理学报 学科 工学
关键词 悬浮区熔 单晶生长 稀土化合物 胞状组织
年,卷(期) 2016,(3) 所属期刊栏目 材料研究
研究方向 页码范围 1-5
页数 分类号 TG132.2
字数 语种 中文
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悬浮区熔
单晶生长
稀土化合物
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材料热处理学报
月刊
1009-6264
11-4545/TG
大16
北京市海淀区学清路18号北京电机研究所内
82-591
1980
chi
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