一种SGLT1/2抑制剂的合成工艺

• 作者: 屠金月 掌效舟 朱强 田辉
• 来源期刊: 精细与专用化学品
• 学科: 工学
• 关键词: SGLT1/2抑制剂 吡喃糖 脱苄
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 所属期刊栏目: 特别关注
• 页码范围: 8-10
• 页数: 3页
• 分类号: TQ463
• 字数: 1580字
• 语种: 中文

摘要

阐述了一种SGLT1/2抑制剂1,6-脱水-1-C-[4-氯-3-[(4-三氟甲氧基苯基)甲基]苯基]-5-C-(羟甲基)-β-L-艾杜吡喃糖(1)的合成方法.该方法以[(3S,4S,5R,6S)-3,4,5-三苄氧基-6-[4-氯-3-[[4-(三氟甲氧基)苯基]甲基]苯基]-2-羟甲基-6-甲氧基四氢吡喃-2-基]甲醇(2)为原料,经过成环反应得到[(1R,2S,3S,4R,5R)-2,3,4-三苄氧基-5-[4-氯-3-[[4-(三氟甲氧基)苯基]甲基]苯基]-6,8-二氧杂双环并[3.2.1]辛烷-1-基]甲醇(3),化合物3经过氢化脱苄得到化合物(1).该工艺路线操作简单,可操作性强,副反应少,反应收率高,适合工业化生产.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱强		4	0	0.0	0.0
2	田辉		3	1	1.0	1.0
3	屠金月		2	0	0.0	0.0
4	掌效舟		2	0	0.0	0.0