镀液pH值对电沉积Ni-W合金镀层结构及其耐蚀性能的影响

• 作者: 周琼宇 王小芬 王操 胡一峰 钟庆东
• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ni-W合金 镀层 电沉积 耐蚀性 钝化 电化学阻抗
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 457-462
• 页数: 6页
• 分类号: TG178
• 语种: 中文
• DOI: 10.11902/1005.4537.2016.071

摘要

采用直流电沉积的方法在低碳钢表面制备了一层Ni-W合金镀层,研究了pH值对电沉积Ni-W合金镀层结构及其耐蚀性能的影响.结果表明:在硫酸盐-柠檬酸镀液体系中可直接沉积一层均匀致密的Ni-W合金层,pH值小于7的镀液沉积得到纳米晶结构的Ni-W镀层;pH值大于7时,镀层为非晶态结构.Ni-W合金层的硬度主要由镀层中W含量所决定,镀液pH值为5.5时所沉积的Ni-W镀层中W含量最高,镀层的硬度最高(753 HV);在3.5％(质量分数)NaC1溶液中,Ni-W合金层均表现出比低碳钢更低的电化学活性,对基体具有良好的保护作用.在所有的Ni-W合金镀层样品中,非晶态镀层由于表面易发生钝化而具有更加优异的耐蚀性能,其中镀液pH值为7.5时所沉积的镀层具有最优的耐蚀性能.