Co FeB 超薄膜中增强的饱和磁化强度

• 作者: 刘林
• 来源期刊: 西南大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 钴铁硼 超薄膜 饱和磁化强度
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 所属期刊栏目: 数理科学与化学
• 页码范围: 149-152
• 页数: 4页
• 分类号: O482.54
• 语种: 中文
• DOI: 10.13718/j.cnki.xdzk.2016.09.023

摘要

研究了分别生长在 Si基片和反铁磁 FeM n薄膜上的CoFeB超薄膜在室温的磁特性。发现生长在反铁磁FeMn薄膜上的CoFeB超薄膜的饱和磁化强度比直接生长在Si基片的CoFeB超薄膜的值大，并且发现随着CoFeB超薄膜厚度的增加，两者的差值减小。这样一种增大的饱和磁化强度应该与反铁磁 FeM n层对CoFeB超薄膜的钉扎有关。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘林	西南大学电子信息工程学院	5	2	1.0	1.0