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Ho3+掺杂Bi4Si3O12晶体的生长与光谱特性
Ho3+掺杂Bi4Si3O12晶体的生长与光谱特性
作者:
储耀卿
张彦
徐家跃
杨波波
温裕贤
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
硅酸铋晶体
坩埚下降法
晶体生长
钬掺杂
光谱性能
摘要:
采用坩埚下降法生长了尺寸为?25 mm×100mm的Ho3+掺杂的Bi4Si3O12(BSO:Ho)晶体,研究了所得晶体的透射光谱、激发光谱、发射光谱等特性。结果表明:BSO:Ho晶体透射光谱与纯BSO晶体基本一致,在350~800 nm波长范围的透过率约为80%,吸收边在286 nm处;在360、454和537 nm处存在与Ho3+有关的吸收峰;激发光谱在240~310 nm波段出现1个宽的激发带,峰值在290 nm左右;发射光谱中除480 nm发射带外,在573 nm附近有多个与Ho3+有关的尖锐发射峰。BSO:Ho晶体的主要发光分量的荧光衰减时间为94.41 ns,表明掺杂0.1%Ho3+(摩尔分数)有利于提高BSO晶体的闪烁性能。
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硅酸铋
晶体生长
Dy3+掺杂
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光产额
内容分析
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关键词热度
相关文献总数
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文献信息
篇名
Ho3+掺杂Bi4Si3O12晶体的生长与光谱特性
来源期刊
硅酸盐学报
学科
物理学
关键词
硅酸铋晶体
坩埚下降法
晶体生长
钬掺杂
光谱性能
年,卷(期)
2016,(10)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
1446-1450
页数
5页
分类号
O782
字数
语种
中文
DOI
10.14062/j.issn.0454-5648.2016.10.09
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张彦
上海应用技术大学材料科学与工程学院晶体生长研究所
14
24
3.0
3.0
2
徐家跃
上海应用技术大学材料科学与工程学院晶体生长研究所
87
198
6.0
9.0
3
杨波波
上海应用技术大学材料科学与工程学院晶体生长研究所
12
28
4.0
4.0
4
储耀卿
上海应用技术大学材料科学与工程学院晶体生长研究所
6
10
2.0
3.0
5
温裕贤
上海应用技术大学材料科学与工程学院晶体生长研究所
1
1
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引文网络
引文网络
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二级引证文献(0)
2017(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2019(2)
引证文献(0)
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节点文献
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坩埚下降法
晶体生长
钬掺杂
光谱性能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
硅酸盐学报
主办单位:
中国硅酸盐学会
出版周期:
月刊
ISSN:
0454-5648
CN:
11-2310/TQ
开本:
大16开
出版地:
北京市海淀区三里河路11号
邮发代号:
2-695
创刊时间:
1957
语种:
chi
出版文献量(篇)
6375
总下载数(次)
8
总被引数(次)
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