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摘要:
采用坩埚下降法生长了尺寸为?25 mm×100mm的Ho3+掺杂的Bi4Si3O12(BSO:Ho)晶体,研究了所得晶体的透射光谱、激发光谱、发射光谱等特性。结果表明:BSO:Ho晶体透射光谱与纯BSO晶体基本一致,在350~800 nm波长范围的透过率约为80%,吸收边在286 nm处;在360、454和537 nm处存在与Ho3+有关的吸收峰;激发光谱在240~310 nm波段出现1个宽的激发带,峰值在290 nm左右;发射光谱中除480 nm发射带外,在573 nm附近有多个与Ho3+有关的尖锐发射峰。BSO:Ho晶体的主要发光分量的荧光衰减时间为94.41 ns,表明掺杂0.1%Ho3+(摩尔分数)有利于提高BSO晶体的闪烁性能。
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文献信息
篇名 Ho3+掺杂Bi4Si3O12晶体的生长与光谱特性
来源期刊 硅酸盐学报 学科 物理学
关键词 硅酸铋晶体 坩埚下降法 晶体生长 钬掺杂 光谱性能
年,卷(期) 2016,(10) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1446-1450
页数 5页 分类号 O782
字数 语种 中文
DOI 10.14062/j.issn.0454-5648.2016.10.09
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张彦 上海应用技术大学材料科学与工程学院晶体生长研究所 14 24 3.0 3.0
2 徐家跃 上海应用技术大学材料科学与工程学院晶体生长研究所 87 198 6.0 9.0
3 杨波波 上海应用技术大学材料科学与工程学院晶体生长研究所 12 28 4.0 4.0
4 储耀卿 上海应用技术大学材料科学与工程学院晶体生长研究所 6 10 2.0 3.0
5 温裕贤 上海应用技术大学材料科学与工程学院晶体生长研究所 1 1 1.0 1.0
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