高阶ELIC制程管制重点和工具系统研究

• 作者: 周定忠 李清春
• 来源期刊: 印制电路信息
• 学科: 工学
• 关键词: HDI ELIC 制程管制 工具系统 对准度偏差
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: HDI/电镀
• 页码范围: 39-43,58
• 页数: 6页
• 分类号: TN41
• 字数: 3683字
• 语种: 中文

摘要

高阶ELIC越来越多的应用在高端手机、平板电脑等消费电子产品中.文章主要研究100 μm盲孔ELIC产品的制作,涉及关键工序控制方法和工具系统的处理,以使微盲孔的整体对准度偏差在±50μm,同时对HDI制作过程的品质管制工具进行讨论.