烧结制度对多孔氮化硅陶瓷的制备及特性的影响研究

• 作者: 杜芳林 王雨菲
• 来源期刊: 中国陶瓷
• 学科: 工学
• 关键词: 碳热还原 常压烧结 氮化硅陶瓷 结构性能
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 17-22
• 页数: 6页
• 分类号: TQ174.75+8.12
• 语种: 中文
• DOI: 10.16521/j.cnki.issn.1001-9642.2016.09.004

摘要

采用碳热还原-常压烧结法制备高性能多孔氮化硅陶瓷材料,结合热力学分析和TG-DTA分析得出碳热还原反应的主要机理和起始反应温度,在此基础上分别通过三种烧结制度制备多孔氮化硅陶瓷,并利用XRD、SEM以及压汞仪研究其对结构与性能的影响.结果表明:碳热还原反应属于吸热反应,其吉布斯自由能随温度升高而降低,反应起始温度为1472℃;制得的多孔氮化硅陶瓷主要由长柱状β-Si3N4晶粒交错搭接而成,1200℃预烧结有利于β-Si3N4晶型的发育,制备的产物晶粒细小,长径比较大,组织分布均匀,晶粒结合较为紧密,其内部具备大量不规则孔隙结构,孔容为0.5538mL·g-1,孔隙率为48.04％,在保持较高的气孔率的同时兼具了较高的强度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜芳林		63	232	7.0	11.0
2	王雨菲		2	2	1.0	1.0