半导体刻蚀设备中真空系统的设计优化

• 作者: 陈妙娟
• 来源期刊: 机电信息
• 关键词: 刻蚀设备 真空系统 真空泵 优化
• 年，卷（期）: 2016,（21）
• 页码范围: 128-130
• 页数: 3页
• 字数: 2321字
• 语种: 中文

摘要

针对半导体刻蚀设备中的真空系统部分进行探究，具体介绍在真空系统设计过程中泵/阀门的选取、慢抽过程的应用、防冷凝方案等，并对抽气性能优化进行了一些研究，以实现真空系统对半导体刻蚀设备提供最优化的压力控制。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈妙娟		2	0	0.0	0.0