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光学光刻设备发展和展望
光学光刻设备发展和展望
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摘要：
在半导体技术和制造的发展中,半导体加工技术中最为关键的光刻技术和光刻工艺设备,必将发生显著的变化,本文将对光刻技术和光刻设备的发展历史进行简述,并展望未来光刻技术的趋势.
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主办单位：
北京自动测试技术研究所
出版周期：
半月刊
ISSN：
1000-8519
CN：
11-3927/TN
开本：
大16开
出版地：
北京市100098－002信箱
邮发代号：
82-870
创刊时间：
1994
语种：
chi
出版文献量（篇）
19588
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