一个PIXE-RBS离子束分析系统的刻度

• 作者: 刘慢天 夏川东 安竹 朱敬军
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 工学
• 关键词: 质子诱发X射线荧光分析 卢瑟福背散射分析 H 值
• 年，卷（期）: 2017,（8）
• 所属期刊栏目: 低能加速器技术、射线技术及应用
• 页码范围: 9-14
• 页数: 6页
• 分类号: TL81
• 字数: 4646字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11889/j.0253-3219.2017.hjs.40.080201

摘要

四川大学原子核科学技术研究所依托2.5 MeV范德格拉夫静电加速器搭建了质子诱发X射线荧光分析(Proton Induced X-ray Emission,PIXE)与卢瑟福背散射分析(Rutherford Backscattering Spectrometry,RBS)相结合的离子束分析系统,描述了该分析系统和刻度过程.通过10个金属单质的PIXE-RBS测量,刻度得到的仪器常数H值是一条随能量变化的曲线,然后采用最小二乘法拟合确定了X射线探测器前的Mylar膜有效厚度、选择性滤膜的有效厚度和中心小孔大小,从而得到H值.为了对刻度H值进行检验,在相同实验条件下测量了标准粘土样品元素成分,测量数据与证书数据符合得较好.刻度结果将用于以后的PIXE-RBS分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	安竹	四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室	24	49	4.0	6.0
2	夏川东	四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室	2	1	1.0	1.0
3	刘慢天	四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室	5	3	1.0	1.0
4	朱敬军	四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室	10	5	1.0	1.0