晕开不良修复方法及影响因素的研究

• 作者: 周春霖 王贺卫 衣洪亮 郭栋 韩磊 魏平玉
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 晕开不良 裂变 形变 修复成功率 影响因素
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 110-116
• 页数: 7页
• 分类号: TN942
• 字数: 2394字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20173202.0110

摘要

作为TFT-LCD常见的晕开不良,目前无成熟、系统的修复方法.本文依据TFT-LCD晕开不良形成机理,建立修复模型并实验验证该模型.通过激光照射裂变法及按压形变法对某款产品晕开不良进行修复验证,裂变法及形变法修复成功率分别达到30％和70％.通过修复影响因素分析,结果表明,裂变法在照射能量为4～10Ⅳ时,异物颗粒所在位置决定其修复效果;形变法在按压力度为30～50 N时,异物高度及成分成为其修复成功的决定因素.最后本文以上述理论分析和实验结果为指导,对一款晕开不良产品进行按压修复且成功率达到79％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏平玉		2	1	1.0	1.0
2	韩磊		2	1	1.0	1.0
3	郭栋		2	1	1.0	1.0
4	周春霖		1	0	0.0	0.0
5	王贺卫		1	0	0.0	0.0
6	衣洪亮		1	0	0.0	0.0