载盘预处理对纯铝薄膜小丘生成的影响

• 作者: 张勋泽 朴祥秀 肖亮
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 纯铝薄膜 小丘 MATLAB 磁控溅射 残余气体
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 104-109
• 页数: 6页
• 分类号: TB31
• 字数: 3508字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20173202.0104

摘要

在TFT Array制程中,使用刚刚更换过清洗品的载盘生产纯铝薄膜时,基板周边常常会出现小丘,小丘的生成将严重影响产品的电学性能和良率.本文通过生产线上常用的阵列宏微观缺陷检查机对纯铝薄膜表面进行观察并存图,利用MATLAB软件对图片进行分析和计算,实现了工厂端对小丘发生情况的快速识别和比对.本文就可能影响小丘生成的纯铝薄膜膜厚、载盘预处理时间以及成膜后玻璃基板在加热腔室内的停留时间等几个因素设计了正交和单因素实验.实验结果表明,载盘的预处理时间是影响小丘生成的首要因素,当载盘预处理时间大于90 min,膜厚为铝/钼300/80 nm,成膜后基板在加热腔室不停留的情况下,可以获得表面几乎无小丘的纯铝薄膜,这一结果对有效避免生产过程中因更换清洗品等原因导致的小丘生成具有重要的意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朴祥秀		4	4	2.0	2.0
2	张勋泽		2	4	2.0	2.0
3	肖亮		1	2	1.0	1.0