ELID沟道成形磨削氧化膜特性及影响作用实验

• 作者: 任成祖 左明泽 王志强
• 来源期刊: 宇航材料工艺
• 学科: 工学
• 关键词: ELID沟道成形磨削 氧化膜 磨削力 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 新材料新工艺
• 页码范围: 42-47
• 页数: 6页
• 分类号: TG58
• 字数: 4378字
• 语种: 中文
• DOI: 10.12044/j.issn.1007-2330.2017.04.009

摘要

针对ELID沟道成形磨削特点,研究了磨削过程中氧化膜的特性及其影响作用.探讨分析了氧化膜的电流表征、氧化膜在沟道成形磨削中的状态变化以及氧化膜状态对磨削力和表面粗糙度的影响.实验过程中,电解电流从1A增长到4A,氧化膜厚度从35.33 μm减小到11.07 μm,法向磨削力从7.06 N增长到36.12 N,切向磨削力从1.62 N增长到4.47 N;垂直于磨削方向的表面粗糙度由0.256 μm增长到0.355 μm,平行于磨削方向的表面粗糙度由8 nm增长到13 nm.结果表明,氧化膜越厚,磨削力和表面粗糙度越小;氧化膜越薄,磨削力和表面粗糙度越大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任成祖	天津大学机构理论与装备设计教育部重点实验室	67	552	12.0	19.0
2	王志强	天津大学机构理论与装备设计教育部重点实验室	38	259	8.0	14.0
3	左明泽	天津大学机构理论与装备设计教育部重点实验室	2	5	1.0	2.0