氮化硅陶瓷ELID磨削预修锐与氧化膜成膜的影响因素

• 作者: 万林林 刘伟 刘志坚 邓朝晖
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: ELID磨削 工程陶瓷 预修锐 氧化膜
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 页码范围: 55-61
• 页数: 7页
• 分类号: TG58|TH145
• 字数: 5398字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.2.0012

摘要

针对氮化硅陶瓷回转曲面零件高效低损伤的加工要求,设计适用于回转面加工的在线电解修整(ELID)磨削实验装置,在数控坐标磨床上进行预修锐实验.基于平行电极电解池模型,建立预修锐时间与氧化膜成膜厚度的关系模型,分析占空比和极间间隙对成膜效果的影响规律.结果表明:工艺参数对预修锐时间的影响程度依次为占空比＞电解液流量＞砂轮转速＞脉冲频率.采用田口方法获得最优工艺参数组合为占空比0.75,脉冲频率50 kHz,砂轮转速9 000 r/min,电解液流量1.0 L/min.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘伟	湖南科技大学难加工材料高效精密加工湖南省重点实验室	70	242	7.0	11.0
2	邓朝晖	湖南科技大学难加工材料高效精密加工湖南省重点实验室	88	477	11.0	17.0
3	万林林	湖南科技大学难加工材料高效精密加工湖南省重点实验室	36	224	9.0	13.0
4	刘志坚	湖南科技大学难加工材料高效精密加工湖南省重点实验室	22	165	8.0	12.0