等离子喷涂-物理气相沉积射流中粒子状态和分布

• 作者: 刘敏 毛杰 邓子谦 邓春明 陈志坤 马景涛
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD) 涂层生长 空间分布 熔滴/固态颗粒
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 81-88
• 页数: 8页
• 分类号: TG174.442
• 语种: 中文
• DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20161218001

摘要

采用等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)在高温合金基体上沉积7YSZ热障涂层,通过分步沉积实验、径向和轴向的涂层结构分布实验探讨了涂层中各种粒子的种类、形成原因、对涂层结构的影响及射流中的粒子分布.研究表明:PS-PVD实际上是一种以气相沉积为主,多相混合的沉积方式.涂层的沉积过程中,气相沉积是柱状晶形成的主要原因;熔融及部分熔融的大颗粒对可以直接改变柱状结构的生长状态;气相再凝固和气化不充分残留的小颗粒对涂层的影响是一个累积的过程.气相主要集中在射流中心,越靠近射流边缘,部分熔融粒子的比例越高,最终导致PS-PVD沉积涂层结构出现空间分布特征.