共轴共聚焦干涉式表面等离子体显微成像技术

• 作者: 张蓓 王乐 袁梅 闫鹏 高枫
• 来源期刊: 北京航空航天大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 显微成像 共聚焦干涉 表面等离子体 成像系统 纳米检测
• 年，卷（期）: 2017,（7）
• 页码范围: 1330-1335
• 页数: 6页
• 分类号: TN29|TH742
• 字数: 3915字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13700/j.bh.1001-5965.2016.0526

摘要

表面等离子体(SPs)显微成像技术能够在纳米尺度上对材料折射率的局部变化以及材料的表面形貌进行检测,这一特性使其在生物医疗及半导体材料等领域有很多的应用.提出一种新型共轴共聚焦干涉式表面等离子体显微成像技术,该技术可以定量地对折射率变化进行检测,而且具有实现简单、成本低、对环境条件要求低、信噪比高等优点.采用压电陶瓷微纳米移动平台在显微物镜的焦面附近对样品进行扫描,SPs信号与参考光的相对相位会改变从而产生一个周期性的振荡信号即V(z)曲线.同时该技术能够通过控制样品的离焦距离来实现图像对比度的可控,而且这一举措不会显著地降低图像的分辨率及对比度.也分别从理论仿真和实验结果上证明了该技术的可行性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁梅	北京航空航天大学自动化科学与电气工程学院	35	228	10.0	13.0
2	王乐	中国人民大学理学院	38	62	3.0	7.0
3	张蓓	北京航空航天大学自动化科学与电气工程学院	5	6	1.0	2.0
4	闫鹏	北京航空航天大学自动化科学与电气工程学院	6	46	3.0	6.0
5	高枫	北京航空航天大学自动化科学与电气工程学院	1	0	0.0	0.0