化学刻蚀过程中熔石英表面沉积物的形成及其对激光损伤的影响

• 作者: 严鸿维 刘太祥 张丽娟 晏良宏 李合阳 李源 杨科 王志强 袁晓东
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光光学 熔石英 化学刻蚀 沉积物 激光诱导损伤
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 1-6
• 页数: 6页
• 分类号: O436
• 字数: 3097字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201729.160509

摘要

化学刻蚀是提升熔石英光学元件抗激光损伤性能的重要后处理技术之一,但刻蚀后熔石英表面附着的沉积物对其表面质量、透射性能和抗激光损伤性能有很大影响.使用光学显微镜和原子力显微镜表征了化学刻蚀后附着于熔石英表面的沉积物的微观形貌,并分析了其形成机理;X射线能谱分析表明化学刻蚀后熔石英表面沉积物主要由Fe,Ni,Al等元素的金属盐组成.损伤阈值测试结果表明熔石英表面高密度沉积物区域的损伤阈值明显低于非沉积物区域,沉积物对熔石英光学元件的抗激光损伤性能产生严重影响,它们是诱导熔石英激光损伤的前驱体.