半导体制造领域显影工艺及显影喷嘴的发展

• 作者: 刘学平 朱珂
• 来源期刊: 机械工程与自动化
• 学科: 工学
• 关键词: 显影工艺 显影喷嘴 均匀性 低冲击
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 专题综述
• 页码范围: 219-221,223
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3103字
• 语种: 中文

摘要

论述了显影工艺的发展及国内外对显影工艺的研究,指出了其存在的缺陷及技术发展难点,并对显影工艺中的重要部件显影喷嘴的发展过程进行了论述,介绍了各种显影喷嘴的工艺过程及结构功能,基于工艺要求分析了它们各自的优缺点以及可能产生的显影缺陷.从实际生产出发,针对显影工艺技术发展的客观趋势,指出了显影喷嘴的改进目标及未来发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘学平	清华大学深圳研究生院先进制造学部	46	326	9.0	16.0
2	朱珂	清华大学深圳研究生院先进制造学部	2	10	2.0	2.0